अर्धवाहकांसाठी उच्च-शुद्धता आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट

सेमीक्सलॅब उच्च शुद्धता असलेले आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट, त्याच्या उच्च शुद्धतेमुळे, बारीक धान्य रचना, एकसमान घनता, थर्मल शॉक प्रतिरोधकता आणि उत्कृष्ट यंत्रक्षमतेमुळे, अर्धवाहक उद्योगात मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते. खाली प्रमुख तयार उत्पादने आणि महत्त्वपूर्ण प्रक्रियांमध्ये त्यांच्या संबंधित भूमिका आहेत:

सेमीकंडक्टर अनुप्रयोगांसाठी आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट

१. एमओसीव्हीडी (धातू-सेंद्रिय रासायनिक वाष्प निक्षेपण) मध्ये

MOCVD ही GaN, GaAs आणि SiC च्या एपिटॅक्सियल थरांच्या निर्मितीसाठी एक मुख्य प्रक्रिया आहे. आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट सामान्यतः खालील उत्पादनांसाठी वापरले जाते:

● ससेप्टर्स: रिअॅक्टरच्या आत वेफर्स धरून ठेवणारे आणि फिरवणारे वेफर कॅरियर म्हणून काम करतात. ते एकसमान उष्णता हस्तांतरण प्रदान करतात, ज्यामुळे वेफर पृष्ठभागावर सातत्यपूर्ण एपिटॅक्सियल वाढ सुनिश्चित होते. रासायनिक प्रतिकार सुधारण्यासाठी आणि आयुष्य वाढवण्यासाठी सामान्यतः CVD SiC किंवा TaC सह लेपित केले जाते.

● वेफर कॅरियर्स / ग्रेफाइट बोट्स: एकाच वेळी अनेक वेफर्स लोड करण्यासाठी वापरले जातात. वेफर सपाटपणा राखण्यासाठी आणि दूषितता टाळण्यासाठी त्यांना अचूक मशीनिंगची आवश्यकता असते.

● हीटर घटक: ग्रेफाइट हीटर उच्च-गुणवत्तेच्या एपिटॅक्सीसाठी आवश्यक असलेले स्थिर आणि एकसमान थर्मल फील्ड प्रदान करतात.

महत्त्वाची भूमिका: आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट तापमान एकरूपता, रासायनिक स्थिरता आणि दीर्घ सेवा आयुष्य सुनिश्चित करते, जे एपिटॅक्सियल फिल्म गुणवत्तेवर थेट परिणाम करते.

२. अ‍ॅनिलिंग आणि डिफ्यूजन फर्नेसमध्ये

डोपंट डिफ्यूजन, ऑक्सिडेशन आणि अॅनिलिंग सारखे उच्च-तापमान थर्मल प्रोसेसिंग टप्पे आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट घटकांवर मोठ्या प्रमाणात अवलंबून असतात, ज्यात हे समाविष्ट आहे:

● डिफ्यूजन फर्नेस बोट्स: उच्च-तापमानाच्या अ‍ॅनिलिंग आणि डोपंट डिफ्यूजन प्रक्रियेदरम्यान वेफर्स धरा. ग्रेफाइट उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता आणि वारंवार थर्मल सायकलिंग अंतर्गत कमीत कमी विकृती प्रदान करते.

● लाइनर्स आणि इन्सुलेशन घटक: ग्रेफाइट लाइनर्स आणि शील्ड्स भट्टीच्या चेंबर्सना दूषित होण्यापासून वाचवतात आणि तापमानात एकरूपता वाढवतात.

● हीटर ट्यूब आणि घटक: उच्च-तापमानाच्या वातावरणात प्रतिरोधक हीटर म्हणून वापरले जातात, जे अचूक आणि सुसंगत उष्णता देतात.

महत्त्वाची भूमिका: आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट घटक दूषिततामुक्त, स्थिर आणि पुनरावृत्ती करता येणारे उष्णता उपचार सक्षम करतात, जे डोपंट सक्रियकरण आणि दोष कमी करण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहे.

३. SiC एपिटॅक्सीमध्ये (४H-SiC, ६H-SiC वाढ)

SiC एपिटॅक्सियल वाढीसाठी अति-उच्च तापमान (>१५००°C) आणि संक्षारक वायू वातावरणाची आवश्यकता असते. आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइटचा वापर खालील गोष्टी तयार करण्यासाठी केला जातो:

● SiC-लेपित ससेप्टर्स: SiC एपिटॅक्सी दरम्यान सब्सट्रेट सपोर्ट प्रदान करतात, ज्यामुळे अत्यंत परिस्थितीत उत्कृष्ट उष्णता वितरण आणि पृष्ठभाग स्थिरता सुनिश्चित होते.

● ग्रेफाइट पॅडल्स आणि वेफर होल्डर्स: रोटेशन आणि गॅस प्रवाहादरम्यान वेफर्स सुरक्षित करा, एकसमान वाढीचा दर आणि थर जाडी सुनिश्चित करा.

● प्रक्रिया नळीचे घटक: एपिटॅक्सी रिअॅक्टरमधील स्ट्रक्चरल ग्रेफाइट भाग आक्रमक वातावरणाचा सामना करताना शुद्धता राखतात.

महत्त्वाची भूमिका: SiC एपिटॅक्सीमधील आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइट मितीय अचूकता, रासायनिक प्रतिकार आणि विश्वासार्ह थर्मल व्यवस्थापन प्रदान करते, जे वेफर उत्पन्न आणि एपिटॅक्सियल फिल्म एकरूपतेवर थेट परिणाम करते.

चीनमध्ये उच्च-शुद्धता असलेल्या आयसोस्टॅटिक ग्रेफाइटचा एक अग्रगण्य पुरवठादार म्हणून, सेमीक्सलॅब सेमीकंडक्टर प्रक्रिया उद्योगासाठी प्रगत उत्पादने आणि तांत्रिक उपाय प्रदान करण्यास वचनबद्ध आहे. आम्ही कधीही तुमच्या चौकशीचे स्वागत करतो आणि तुमचे दीर्घकालीन भागीदार बनण्याची प्रामाणिकपणे आशा करतो.